磁場干擾EMI：瞭解並減輕交流和直流磁場
直流(DC)和交流(AC)磁場會產生磁場干擾，從而降低電子顯微鏡和電子束微影設備的性能，可以同時處理直流和交流的主動消磁系統是最簡單且具成本效益的解決方案。本篇將將說明什麼是直流磁場和交流磁場，以及磁場干擾如何影響各實驗室的設備。
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磁場干擾
主動式雙消磁系統：解決鐵電材料研究中的磁場干擾問題
在Spectra 300 TEM上安裝了2X SC24主動雙消磁系統後，外部干擾已經明顯改善。透過四顆磁場探頭所取得的資料，可見在高度3公尺至0.5公尺範圍內不論是X、Y、 Z方向其數值皆低於20nT。故Spectra 300 TEM可不受磁場干擾影響，而能以最高倍率運作、取得高品質影像。
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磁場屏蔽技術推進半導體微型元件研發製程
磁場屏蔽技術對於半導體製程頗具重要性。半導體產業不斷投入微型元件的研發，其工廠通常採用吊頂式單軌系統，以在站點之間運輸組件以進行自動裝載和加工，這些高架系統通常會產生9 kHz的磁場，這對成像品質產生極大負面影響，必須將其消除以提高解析度，恢復電子顯微鏡原有的效能。
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如何提高電子束微影的良率：掌握消磁器選擇的關鍵
2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰，先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡稱EBL）更是具潛力發展的技術之一，其應用範圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此，如何在複雜技術中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環境問題至關重要。
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突破電子顯微鏡成像瓶頸—新SC24 Plus全面監控多種環境干擾、消除EMI問題
隨著微電子元件、微控制器時代來臨，半導體製程需要更高倍率的成像品質。然而，來自於外部環境如EMI等眾多干擾容易影響解析度，要釐清是否為設備故障問題往往需要耗費大量時間成本。
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最全面的半導體、實驗室及工業設備消磁選擇：Spicer Consulting電磁干擾解決方案
您也有電磁干擾問題需要解決嗎？眾多消磁器中不知哪一款最適合？Spicer Consulting提供一系列主動式消磁器選擇指引，依不同產業應用層面及場地客製化解決磁場干擾問題。
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Spicer SC26 主動式消磁器 改善300mm線上電子束檢測設備磁場干擾問題
進入300mm晶圓廠中不難發現，當晶圓運輸天車在運作過程中，將會產生9 kHz的磁場干擾，嚴重影響周遭電子束檢測設備的性能，成為提升半導體CD節點技術的阻礙之一…
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