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磁場干擾

如何提高電子束微影的良率:掌握消磁器選擇的關鍵

2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰,先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢,其中電子束微影(Electron Beam Lithography,簡稱EBL)更是具潛力發展的技術之一,其應用範圍包含:微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此,如何在複雜技術中提高良率以降低成本,解決電磁干擾等環境問題至關重要。

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突破電子顯微鏡成像瓶頸—新SC24 Plus全面監控多種環境干擾、消除EMI問題

隨著微電子元件、微控制器時代來臨,半導體製程需要更高倍率的成像品質。然而,來自於外部環境如EMI等眾多干擾容易影響解析度,要釐清是否為設備故障問題往往需要耗費大量時間成本。

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最全面的半導體、實驗室及工業設備消磁選擇:Spicer Consulting電磁干擾解決方案

您也有電磁干擾問題需要解決嗎?眾多消磁器中不知哪一款最適合?Spicer Consulting提供一系列主動式消磁器選擇指引,依不同產業應用層面及場地客製化解決磁場干擾問題。

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