積層製造(Additive Manufacturing, AM),又稱為3D列印,是一種藉由不同材料逐層堆疊而製成產品的技術,常用材料如:金屬粉末、陶瓷粉末、聚合物粉末等。無論是對這些粉末進行進料品質管控或回收處理,都需要經過複雜繁鎖的步驟,掌握粉末顆粒的物性和化學組成影響著積層製造最終成品品質。
Phenom ParticleX AM Desktop SEM 是一款可用於分析 積層製造金屬粉末 的掃描式電子顯微鏡,提供金屬粉末分析必備三大資訊:監測粉末粒徑分佈、單一顆粒形態、辨識異物顆粒。透過監測金屬粉末材料關鍵物性,以優化粉床成型及堆疊等積層製造工藝流程。
Phenom ParticleX AM Desktop SEM-產品特色
●積層製造(Additive Manufacturing, AM)/3D列印所使用的金屬粉末材料分析掃描式電子顯微鏡,標配BSD、EDS偵測器 ●粉末顆粒分析系統可自動化檢測Spherical、satellite、Deformed金屬粉末顆粒,每個粒子又可進一步分析。 ●配備100mm*100mm大樣品艙,可測量各種尺寸和形狀參數,例如最小和最大直徑、週長、長寬比、粗糙度和 feret diameter。所有這些都可以用 10%、50%、90% 值顯示(例如 d10、d50、d90)。 ●CeB6燈絲源,放大倍率200,000X,影像解析優於10nm
Phenom ParticleX AM Desktop SEM-積層製造粉末顆粒自動識別系統
●提供自動化檢測模板,簡單操作即可讓系統自行區別Spherical、satellite、deformed金屬粉末顆粒,輕鬆揪出積層製造(3D列印)的異物顆粒。 Spherical particles: –Aspect ratio <1.1 and roundness ≥0.9 –(0.6 ≤ average diameter ≤ 5.5) and aspect ratio <1.4 Particles with satellite(s): –Aspect ratio <1.4, roundness >0.6, area/hull area ≥0.95 and void count less than 1 Deformed/agglomerated particles: –All other particles ●可依數量或體積為基礎繪製顆粒尺寸分佈並產出報告。 ●整合X射線能量散布分析儀(EDS),可針對每個單一金屬粉末顆粒進行化學分類。
Phenom ParticleX AM Desktop SEM-專門機介紹
Phenom系列機台【規格表】
型號 | Pharos G2 | ProX G6 | XL G2 |
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光學放大倍率 | 20 – 134 x | 20 – 134 x | 3 – 16 x |
電子放大倍率 | 200 – 2,000,000 x | 160 – 350,000 x | 160 – 200,000 x |
解析度 | SED ≤ 2 nm and BSD ≤ 3 nm | SED ≤ 6 nm and BSD ≤ 8 nm | ≤ 10 nm |
加速電壓 | 1kV – 20kV | 4.8kV – 20.5kV | 4.8kV – 20.5kV |
真空模式 | 高真空模式 中真空模式 低真空模式 | 高真空模式 低真空模式 | 高真空模式 中真空模式 低真空模式 |
偵測器 (部分選配) | BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子 | BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子 | BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子 |
樣品尺寸 | 最大可達 32mm | 最大可達 32mm | 範圍最大 100mm x 100mm 可放置36個12mm樣品載台 |
樣品高度 |
最高可達 100mm (標準高度32mm) |
最高可達 100mm (標準高度32mm) |
最高至 40 mm |
Phenom系列【樣品台】
Phenom系列【專業分析軟體】
Phenom桌上型電子顯微鏡擁有完整的可擴充性,在SEM的基礎上增加了多種的分析軟體,滿足客戶進階分析的需求
ProSuite 軟體
ProSuite 軟體包能夠使Phenom 電子顯微鏡使用者從拍攝的圖像中獲取大量的訊息,延展了SEM能力,滿足特定用戶的需求。
顆粒統計分析量測系統
顆粒統計分析量測系統能夠輕易獲得SEM圖像並分析產生報告,使用者能收集詳細的亞顆粒尺寸及粒度數據。
3D 粗糙度重建系統
3D粗糙度重建系統使Phenom 電子顯微鏡能夠建立樣品3D圖像以及亞微米粗糙度量測。
Phenom 自動化介面 (PPI)
如果用戶想把Phenom電鏡整合或者創建一個客製的解決方案,Phenom自動化介面PPI是必不可少的。PPI可以控制Phenom電鏡的部分功能,包括樣品台、導航相機和影像拍攝…。
孔徑統計分析量測系統
孔徑統計分析量測系統能夠輕易獲得SEM圖像並分析產生報告,使用者能收集詳細的孔徑分布及孔徑參數 (粒徑尺寸、長短軸比…)。
元素分析線面掃描系統
元素分析線面掃描系統是EID軟體中的選配項,能夠顯示出樣品的元素分布情形。使用者可以針對某個點自行設定像素分辨率與擷取時間後進行元素分析。
纖維統計分析量測系統
相對於以往手動量測數值,纖維統計分析量測系統能快速獲得更精確的數值,效率高,操作簡單,更可以測量和分析具有大纖維直徑差異的樣品。