桌上型掃描式電子顯微鏡|鋼鐵介在物分析|ParticleX Steel SEM

在煉鋼過程中對非金屬介在物的控制至關重要，為了瞭解鋼鐵中的非金屬介在物形成的參數，及時準確的數據取得是一大關鍵。然而，鋼鐵介在物分析是一項複雜的工作，需對鋼材中存在的大量介在物分析其尺寸、表面形貌、元素組成、分布，以及變化趨勢。

Phenom ParticleX Steel Desktop SEM擁有鋼鐵介在物自動分析系統，可快速執行介在物分析和產生符合國際認證的報告，包含：ISO 4967、ASTM E45、ASTM E2142、ASTM E2283、JIS G 0555、IS 4163..等。

Pehnom ParticleX Steel Desktop SEM-產品特色

●鋼鐵業廣泛認可的鋼鐵介在物分析技術，可產出符合各項國際標準認證之報告
●採用CeB6燈絲源，成像品質穩定、燈絲壽命相較於鎢絲燈更長
●放大倍率200,000X，影像解析優於10nm
●薄膜幫浦, TMP(無油式真空系統)，SEM成像只需40秒
●配備100mm*100mm大樣品艙，可放置多個樣品或較大型樣品
●桌上型SEM體積小、操作簡單、不受場地限制

Phenom ParticleX Steel Desktop SEM-全自動鋼鐵介在物分析系統

●快速偵測鋼材中的非金屬介在物，如：AI、Si、Ca
●可自動計算切分拍攝位置，以透過SEM影像取得介在物形貌、尺寸、分布
●搭配 EDS 自動化分析，瞭解介在物的元素組成
●可設定規則讓介在物自行分類

Perception-analysis 實際分析進程

左邊可看目前分析的進度，右方可看到每個分割格的分佈情況，下方則有顆粒的SEM影像及EDS資訊、分類的統計值等等，這些都是即時的分析。

Perception–result 查看數據內容

可透過滑鼠的拖曳來知道所有顆粒在stage上的分布狀況。上方資訊欄可以查看每個顆粒的狀態，再點選SEM影像會直接移動到該顆粒的座標，所以可以針對有興趣或是疑問的結果進行再分析。

Phenom系列機台【規格表】


型號	Pharos G2	ProX G6	XL G2
光學放大倍率	20 – 134 x	20 – 134 x	3 – 16 x
電子放大倍率	200 – 2,000,000 x	160 – 350,000 x	160 – 200,000 x
解析度	SED ≤ 2 nm and BSD ≤ 3 nm	SED ≤ 6 nm and BSD ≤ 8 nm	≤ 10 nm
加速電壓	1kV – 20kV	4.8kV – 20.5kV	4.8kV – 20.5kV
真空模式	高真空模式中真空模式低真空模式	高真空模式低真空模式	高真空模式中真空模式低真空模式
偵測器 (部分選配)	BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子	BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子	BSD 背向散射電子 EDS/EDX 元素分析 SED 二次電子
樣品尺寸	最大可達 32mm	最大可達 32mm	範圍最大 100mm x 100mm 可放置36個12mm樣品載台
樣品高度	最高可達 100mm (標準高度32mm)	最高可達 100mm (標準高度32mm)	最高至 40 mm