智能控制電漿清洗機 EM-KLEEN Plasma Cleaner

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  1. 在6分鐘或更短的時間內清潔通常污染的SEM 樣品。
  2. 氫等離子體清潔ALD 樣品2 至60 秒中間無需減速或關閉渦輪泵。
  3. 低等離子體電位設計可減少離子濺射和顆粒產生。
  4. 結合專有的多級氣體過濾技術，滿足半導體客戶最嚴格的顆粒要求。
  5. 獨特的等離子強度傳感器實時監測機台狀態。
  6. 壓力傳感器反饋控制的自動電子氣流控制。
  7. 低EMI 設計，安靜的待機模式。
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