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在6分鐘或更短的時間內清潔通常污染的SEM 樣品。
氫等離子體清潔ALD 樣品2 至60 秒中間無需減速或關閉渦輪泵。
低等離子體電位設計可減少離子濺射和顆粒產生。
結合專有的多級氣體過濾技術，滿足半導體客戶最嚴格的顆粒要求。
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