Skip to content
Main Menu
首頁
關於勀傑
產品介紹
Menu Toggle
環境量測與改善
Menu Toggle
環境量測儀器
環境監測儀器
主動式消磁器
主動式防震台
電鏡防噪音箱
桌上型電子顯微鏡
Menu Toggle
Phenom Pharos
Phenom ProX
Phenom Pure
Phenom XL
Phenom GSR
Phenom Particle X
Phenom Sample Holder
Phenom Software
樣品製備處理
Menu Toggle
離子研磨機 Technoorg Linda
電漿清洗機 PIE Scientific
Pick-up system
Melbuild TEM Holder
鍍金/鍍碳機 Quorum
鍍金機 Agar
耗材專區
Menu Toggle
標準樣品
SEM專區
TEM專區
FIB專區
MAG*I*CAL可追溯TEM標準校正樣品
被動式消磁機
其他相關耗材
應用專欄
最新消息
人才招募
聯繫我們
環境量測與改善
環境量測儀器
環境監測儀器
主動式消磁器
主動式防震台
電鏡防噪音箱
桌上型電子顯微鏡
Phenom Pharos
Phenom ProX
Phenom Pure
Phenom XL
Phenom GSR
Phenom Particle X
Phenom Sample Holder
Phenom Software
樣品製備處理
離子研磨機Technoorg Linda
電漿清洗機 PIE Scientific
Pick-up system
Melbuild TEM Holder
鍍金/鍍碳機 Quorum
鍍金機 Agar
耗材專區
標準樣品
SEM專區
TEM專區
FIB專區
MAG*I*CAL可追溯TEM標準校正樣品
被動式消磁機
其他相關耗材
TEM離子研磨機 Gentle Mill
所有的研磨參數:包括離子源、氣體流量控制都可按步驟進行存儲或預先程式設定
為研究合成和天然材料中真實奈米結構提供了專屬的
Gentle Mill極低的離子束能量使表面損傷和離子束誘導的非晶化最小化
加速電壓和陰極電流,均由數位回饋自動控制
低能量離子清潔時不會損壞樣品
標準FIB切割薄層以2kV + GentleMill完成
金部分太厚,無法解析晶格。 進一步的FIB減薄對Si來說是危險的。
解決方案:分兩步在GentleMill中進一步研磨(每個2x 1分鐘500V 18µA)以達到最佳厚度。
返回
返回
回到頂端