電子束曝光

2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰，先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡稱EBL）更是具潛力發展的技術之一，其應用範圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此，如何在複雜技術中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環境問題至關重要。