電子顯微鏡的安裝規劃 – 如何減少或消除干擾
為了不斷提高電子顯微鏡解析度和成像品質，製造商的環境規範變得越來越嚴格，配備光譜儀的高階顯微鏡只能承受高達 10 或 20 奈米特斯拉的干擾；在無法遷移其他設備並重新安置所有設施的情況下，可以採取不同措施來應對震動和磁場的嚴重性並抵消其影響。
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SC24Plus
如何提高電子束微影的良率：掌握消磁器選擇的關鍵
2023年半導體雖然面臨後疫情時代的市場挑戰，先進製程微縮仍是半導體製造業的發展趨勢，其中電子束微影（Electron Beam Lithography，簡稱EBL）更是具潛力發展的技術之一，其應用範圍包含：微小電子元件、生物芯片、光學元件、量子器件、奈米結構材料、微型機械結構等領域。因此，如何在複雜技術中提高良率以降低成本，解決電磁干擾等環境問題至關重要。
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突破電子顯微鏡成像瓶頸—新SC24 Plus全面監控多種環境干擾、消除EMI問題
隨著微電子元件、微控制器時代來臨，半導體製程需要更高倍率的成像品質。然而，來自於外部環境如EMI等眾多干擾容易影響解析度，要釐清是否為設備故障問題往往需要耗費大量時間成本。
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