首頁 > 應用專欄 > 為何需要Sputter coating?SEM觀察不導電樣品方法有哪些

為何需要Sputter coating?SEM觀察不導電樣品方法有哪些

掃描式電子顯微鏡(scanning electron microscopy, SEM)是用來研究樣品的外觀、尺寸等表面資訊,不僅可以在很短的時間內獲得上述資訊,也不會對樣品產生不可逆的破壞;而產生的影像品質除了取決於機台能力外,若是遇到導電性不佳的樣品,也會影響成像好壞。本篇主要針對不導電或導電性較差的樣品提供SEM影像拍攝的解決方法。

不導電、導電性差樣品的成像問題

SEM的成像原理是電子訊號源產生電子後,並與樣品表面產生交互作用,所以若是遇到不導電或是導電性差的樣品,電子會累積於樣品表面產生「電荷效應」,使得無法看清楚SEM成像,故無法觀察到所有的細節。這是聚合物和非導電材料常見的成像問題。

對非導電樣品拍攝的方式包含:

一、使用金屬材質的膠帶建立接地的連結,並在其周圍區域對樣品進行成像

二、Sputter coating-使用金或是其他導電材料濺鍍樣品表面

三、SEM在低真空模式下操作

以下將加以詳細說明

解決樣品不導電方法──導電膠帶 (導電銅膠帶、導電碳膠帶、導電銀膠…)

導電膠帶可以快速的將樣品與載台做結合,除此之外,對於導電性稍差的樣品,我們會將部份的表面用導電膠帶覆蓋,使電荷予以排除,而且針對不同的分析方法,導電膠帶可以有不同材質選擇。

解決樣品不導電方法──Sputter coating 表面濺鍍

電荷會累積於樣品,而電荷的累積會影響到表面的觀測。這時若是在樣品表面濺鍍一層薄薄的導電性材料(Sputter coating),則能協助導出電子,使成像清楚便於觀測。濺鍍機是將放置樣品的腔體抽真空後,使用高電壓將空氣或是氬氣離子化形成電漿,對靶材進行離子轟擊,使靶材的原子型態沉將於樣品表面。濺鍍具導電性的材料能讓增加樣品導電性,使得成像更加清晰。

需要注意的是,根據不同的濺鍍機規格,Sputter coating在表面形成的導電層顆粒大小也不盡相同,但如果因為導電性不佳而一昧的將濺鍍的時間加長,可能會導致需要觀察較細微的表面結構被遮蔽而適得其反,所以選擇適當的機台及參數在觀察表面結構是相當重要的。

Sputter coating
Sputter coating

解決樣品不導電方法──低真空模式

針對不導電或導電性較差的材料,除了進行表面濺鍍(Sputter coating)外,也可以使用「低真空模式」做觀察,在低真空模式下,帶電的表面電荷會與氣體分子變成電中性,所以即使不對表面進行處理,也不影響使用SEM進行表面細微觀察。

當然低真空模式也不是萬能的,SEM在高真空模式下會得到更好的影像解析能力,所以當我們使用低真空模式時,會犧牲較好的影像能力而換來解決表面電荷累積的問題。

高真空下觀測樣品發生電荷效應,導致影像模糊不清。
低真空下觀測樣品,影像呈現表面原始樣貌。

如果有任何關於SEM、濺鍍機、不導電樣品或樣品製備相關問題

歡迎來電/來信 洽詢:

TEL: 0800-888-963   

Email: sales@kctech.com.tw

勀傑官方Line帳號:@ketech

返回頂端