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應用專欄

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如何避免SEM電子束所造成之樣品損壞?

使用掃描式電子顯微鏡時,隨著觀測樣品時間越久,電子束可能會永久性地改變或降解正在觀察的樣品。樣品降解是一種有害的影響,因為會改變(甚至破壞)想要看到的樣品細節,進而影響檢測結果,此類影響稱之為電子束損壞。

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磁場屏蔽技術推進半導體微型元件研發製程

磁場屏蔽技術對於半導體製程頗具重要性。半導體產業不斷投入微型元件的研發,其工廠通常採用吊頂式單軌系統,以在站點之間運輸組件以進行自動裝載和加工,這些高架系統通常會產生9 kHz的磁場,這對成像品質產生極大負面影響,必須將其消除以提高解析度,恢復電子顯微鏡原有的效能。

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透過自動化SEM分析 加速電池材料陰極的品質控制

電池材料陰極及其前驅物的粒徑分佈和微觀結構對其能量密度和安全性至關重要,在生產過程中需要嚴格監控這些電池材料粒子的品質。掃描式電子顯微鏡被用於製造過程的品質控制,以識別電池原材料及其中間產品的品質變化。本篇應用說明透過SEM自動化分析NCM陰極及其前驅物,以提高工廠生產效率。

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需要潔淨度分析的真正原因與解決方案

為了確保高品質的零件,最常見的檢查方式之一是潔淨度分析。以往對於潔淨度通常使用兩種方式:重量污染物分析的「重量法」和計算顆粒數量的「光學法」。 隨著SEM 和EDS 技術的引入,現在能夠調查更小顆粒的存在,以及區分高硬度的顆粒。

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掃描式電子顯微鏡(SEM)和穿透式電子顯微鏡(TEM)如何選擇?

電子顯微鏡已經成為檢測各種材料上的有力工具,多功能性和高解析度使其成為許多應用中非常有價值的工具。其中又可分為穿透式電子顯微鏡和掃描式電子顯微鏡。穿透式電子顯微鏡(TEM)可為用戶提供更高的解析能力和多功能性,但卻比掃描式電子顯微鏡(SEM)更昂貴且佔地空間更大。

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