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掃描式電子顯微鏡(SEM)選購要點:鎢燈絲和CeB6燈絲差在哪?

對於不同的燈絲源,就性能來說,場發射(FEG)燈絲源生成的高解析圖像最為出色,但是它要求的真空度很高,需要高價的真空設計。因此,對於倍率不需要那麼高的使用者來說,就會更注重能夠以較低成本生成高質量的圖像。這就是為什麼您經常看到鎢燈絲和CeB6燈絲在桌上型電子顯微鏡供應商提供的規格表中。而燈絲的成本效益與它的使用壽命和機台日常維護有關。

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電子顯微鏡的安裝規劃 – 如何減少或消除干擾

為了不斷提高電子顯微鏡解析度和成像品質,製造商的環境規範變得越來越嚴格,配備光譜儀的高階顯微鏡只能承受高達 10 或 20 奈米特斯拉的干擾;在無法遷移其他設備並重新安置所有設施的情況下,可以採取不同措施來應對震動和磁場的嚴重性並抵消其影響。

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使用Phenom掃描式電子顯微鏡自動化檢測防護塗層

使用Phenom掃描式電子顯微鏡自動化檢測防護塗層

從繪畫、油漆到黏合劑或用於防護塗層、光學、催化或絕緣的塗層,在所有這些塗層中,磷酸鹽轉化塗層發揮著重要作用,尤其是在汽車工業中,因為此材料具有耐腐蝕性和潤滑性,由於這些塗層用於關鍵組件上,因此塗層製程必須經過徹底的品質檢測,在本篇文章中,將闡述和分析自動化工具(PPI)與 Phenom 桌上型掃描式電子顯微鏡相結合如何有助於防護塗層的品質檢測。

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材料分析如何協助解決晶圓缺陷,提升製程良率!

在半導體製程當中,想要精確的發現製程缺陷,少不了半導體缺陷分析。而在這中間表面分析儀器與手法更是重中之重。本文大略介紹了何為表面分析技術,以及一些常見的表面分析工具,包含SEM、XPS、AES、AFM和SIMS,還有這些工具在不同步驟中的應用。

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表面分析

表面分析是什麼?捕捉半導體製程缺陷必備!

在半導體製程當中,想要精確的發現製程缺陷,少不了半導體缺陷分析。而在這中間表面分析儀器與手法更是重中之重。本文大略介紹了何為表面分析技術,以及一些常見的表面分析工具,包含SEM、XPS、AES、AFM和SIMS,還有這些工具在不同步驟中的應用。

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光學顯微鏡的優勢與限制:為何電子顯微鏡成為科學界的新寵

光學顯微鏡是透過可見光來成像,廣泛應用於生物學、醫學研究、材料科學、電子和半導體等各產業。然而,從毫米、微米、到奈米,越來越多研究與應用需要觀測到更微小的結構,光學顯微鏡逐漸無法滿足需求。本文說明為何電子顯微鏡成為科學界的新寵,及該如何在光學顯微鏡與電子顯微鏡之中做選擇。

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