應用專欄

分析樣品元素,你需要的是EDS 還是EDX呢?

現今有許多光譜分析技術用於判別樣品的元素組成,其中X射線能量散布分析儀(Energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS)常用於電子顯微鏡中,而掃描式電子顯微鏡(簡稱 SEM)跟EDS兩者之間的技術密不可分,換句話說,一台完整功能的電子顯微鏡不可或缺EDS功能…

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掃描式電子顯微鏡(SEM)選購要點:鎢燈絲和CeB6燈絲差在哪?

對於不同的燈絲源,就性能來說,場發射(FEG)燈絲源生成的高解析圖像最為出色,但是它要求的真空度很高,需要高價的真空設計。因此,對於倍率不需要那麼高的使用者來說,就會更注重能夠以較低成本生成高質量的圖像。這就是為什麼您經常看到鎢燈絲和CeB6燈絲在桌上型電子顯微鏡供應商提供的規格表中。而燈絲的成本效益與它的使用壽命和機台日常維護有關。

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材料分析如何協助解決晶圓缺陷,提升製程良率!

在半導體製程當中,想要精確的發現製程缺陷,少不了半導體缺陷分析。而在這中間表面分析儀器與手法更是重中之重。本文大略介紹了何為表面分析技術,以及一些常見的表面分析工具,包含SEM、XPS、AES、AFM和SIMS,還有這些工具在不同步驟中的應用。

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濺鍍機_調整參數

濺鍍機該如何選?從調整參數看起

掃描式電子顯微鏡(SEM)的成像原理是電子訊號源產生電子後與樣品表面產生交互作用,再由偵測器接收不同類型電子(像是背向散射電子或二次電子)進行成像。具導電性樣品可導出交互作用於樣品表面的電子,若是…

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