應用專欄

放大倍率對於SEM成像重要嗎?

「放大」是一個非常簡單的概念,但有時會因為本身的定義而造成混淆,然而隨著科學進步,對微米和奈米世界的興趣呈指數增長,因此需要量化放大倍率。現今對放大倍率的定義是兩次測量之間的比率,意指需要…

閱讀更多 »

材料分析如何協助解決晶圓缺陷,提升製程良率!

在半導體製程當中,想要精確的發現製程缺陷,少不了半導體缺陷分析。而在這中間表面分析儀器與手法更是重中之重。本文大略介紹了何為表面分析技術,以及一些常見的表面分析工具,包含SEM、XPS、AES、AFM和SIMS,還有這些工具在不同步驟中的應用。

閱讀更多 »
濺鍍機_調整參數

濺鍍機該如何選?從調整參數看起

掃描式電子顯微鏡(SEM)的成像原理是電子訊號源產生電子後與樣品表面產生交互作用,再由偵測器接收不同類型電子(像是背向散射電子或二次電子)進行成像。具導電性樣品可導出交互作用於樣品表面的電子,若是…

閱讀更多 »
返回頂端