應用專欄

TEM grid載網規格與用途簡介,選擇適用的載網,確保製樣流程順利

TEM grid載網規格與用途簡介

穿透式電子顯微鏡(TEM)中使用的載網(grid,支撐網,或以常用規格鍍碳銅網代稱),為特殊結構,非常薄,通常在10到100奈米之間,主要用於支撐樣品,使電子能穿透樣品,並幫助樣品定位,同時減少不需要的背景信號。載網有多種圖案和材質可供選擇,其上也可加上不同薄膜/塗層,以適合各種應用。

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掃描式電子顯微鏡(SEM)和穿透式電子顯微鏡(TEM)如何選擇?

電子顯微鏡已經成為檢測各種材料上的有力工具,多功能性和高解析度使其成為許多應用中非常有價值的工具。其中又可分為穿透式電子顯微鏡和掃描式電子顯微鏡。穿透式電子顯微鏡(TEM)可為用戶提供更高的解析能力和多功能性,但卻比掃描式電子顯微鏡(SEM)更昂貴且佔地空間更大。

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掃描穿透式電子顯微鏡(STEM)的技術及應用

掃描穿透式電子顯微鏡STEM 技術是在 TEM 的基礎上發展而來,可在保持高透射解析度的同時掃描樣品表面,以提供更多的表面和成分資訊。在材料科學上依靠不同的影像模式,研究者可以對微結構和元素分佈進行更為精確的描述。在生命科學領域,如組織病理學的研究,能利用低電壓 來避免對樣品的損傷。Phenom 將 STEM 技術結合到了桌上型電子顯微鏡中應用,為使用相關技術的科研人員提供強大支持工具。

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如何避免SEM電子束所造成之樣品損壞?

使用掃描式電子顯微鏡時,隨著觀測樣品時間越久,電子束可能會永久性地改變或降解正在觀察的樣品。樣品降解是一種有害的影響,因為會改變(甚至破壞)想要看到的樣品細節,進而影響檢測結果,此類影響稱之為電子束損壞。

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磁場屏蔽技術推進半導體微型元件研發製程

磁場屏蔽技術對於半導體製程頗具重要性。半導體產業不斷投入微型元件的研發,其工廠通常採用吊頂式單軌系統,以在站點之間運輸組件以進行自動裝載和加工,這些高架系統通常會產生9 kHz的磁場,這對成像品質產生極大負面影響,必須將其消除以提高解析度,恢復電子顯微鏡原有的效能。

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